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商品

被動元件/光學元件/半導體鍍膜用濺鍍靶材

被動元件/光學元件/半導體鍍膜用濺鍍靶材

 
 
 
 
 
 
 
 
 

微電子元件須具備產量大、體積小且性能差異小等特性,靶材組成成分的準確性大大地影響該產品薄膜電氣特性,因此在靶材製造過程必須考慮材料純度、清淨度與均勻性。本公司除致力於發展高純度靶材外,也針對合金元素的添加配製及組織均勻性,發展出多項Know-How,提供優良的微電子用濺鍍靶材。

 

產品用途 

  • 電阻層(及端電極):Ni-Cr alloy靶、Cr靶、Ni靶、Ta靶、Cu靶與W-Si靶等。
  • 可配合客製開發各種二元、三元及四元合金,包括Ni-Cr靶、Ni-V靶與Ni-Ti靶等。
  • 石英震盪器元件:Ag靶、Ag alloy靶、Ni靶、Cr靶、Au靶。
  • 整流二極體之側導及電阻層:Ni-Cr alloy靶。

 

產品優勢 

  • 擁有二元或多元合金靶材之製造能力,亦可客製化靶材開發。
  • 合金組成均勻,精確控制熱機製程,確保再結晶晶粒組織,可獲得大面積鍍膜之均勻性。
  • 具粉末冶金及預合金化製程能力,可避免析出物及成分偏析,穩定產品品質。

聯絡資訊
通訊地址:82151 高雄市路竹區路科八路1號
電話:+886-7-6955125
傳真:+886-7-6955205
E-mail:service@e-ttmc.com.tw
網址:http://www.e-ttmc.com.tw